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光刻机心脏病有救了?哈工大13.5nm极紫外光源问世,未来可期!

破局的时刻即将到来!长期以来,光刻机制造芯片的核心设备一直卡住了我国高端芯片制造的咽喉,在极紫外光刻机领域更是如此。前几天,哈工大赵永蓬教授团队宣布成功研发出13.5纳米的极紫外光源,打破了国际技术封锁的一角。极紫外光刻机对于芯片突破有多重要?我国未来的芯片产业该如何破局呢?哈工大13.5纳米极紫外光源所谓极紫外光是指波长在13.5纳米的极端紫外线,它比传统紫外线更短,因而可以实现更高的光刻分辨率

消息称三星电子4nm良率已近80%

【消息称三星电子4nm良率已近80%】《科创板日报》21日讯,三星电子的4nm先进制程良率已升至接近80%(未指定芯片尺寸),并在近期陆续获得了来自中国企业的ASIC代工订单。(Newdaily)